技术编号：7130867
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种覆盖标记(overlay mark)，尤其涉及一种用于监测非临界层(non-critical layer)的临界尺寸(critical dimension)的覆盖标记。背景技术 随着半导体尺寸的缩小，并提高集成度，其所伴随的是制程的复杂化与困难度的提高。为了减少制程中报废的产品，半导体制造厂商无不费心地寻求各种实时监控、测量的方法，以在发生问题的时候，能够实时发现并解决问题。以微影(photolithography)制程来说，调校准确性(al...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。