技术编号:7131253
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于集成电路(IC)制造工艺,具体涉及一种新的用于扩散、氧化、外延等工艺单步预清洗的溶液。背景技术 自从上个世纪50年代半导体晶体管发明以来,特别是60年代初期硅平面工艺和外延技术的诞生,使半导体器件制造工艺获得了重大突破。随后集成电路工业应运而生。自从固态器件技术出现同时,人们已经认识到在半导体微电子器件制造中清洁衬底表面重要性。大家知道器件性能、可靠性和硅电路产品成品率受到残留在硅片或器件表面化学试剂杂质和颗粒杂质严重影响。由于半导体表面和亚微米...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。