技术编号：7133148
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法，尤其涉及使用准分子激光、电子射线及X射线的微细加工所适宜的化学增幅型抗蚀剂组合物。并且，本发明还涉及用于制造抗蚀剂用聚合物的新型原料化合物。背景技术 近年来，在制造半导体元件和液晶元件的微细加工领域中，随着平版印刷技术的进步，微细化得到迅速发展。作为该微细化的方法，通常采用使照射光的波长变短的方法，具体讲，照射光从以往的以g线(波长438nm)、i线(波长365nm)为代表的紫外线向DUV(Deep U...
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