技术编号:7141940
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及应用于半导体工业不会污染半导体晶片的陶瓷加热器。背景技术半导体设备经由包括在半导体晶片上涂布作为抗蚀剂的光敏树脂并蚀刻未涂布区的方法制成。当光敏树脂利用旋转涂布器等装置以液体形式施加到半导体晶片的表面时,它必须在涂布后干燥,使溶剂等散发,因此这样涂布的半导体晶片要置于加热器上加热。迄今用于该目的的常规金属加热器包括置于一块铝板背面的加热元件。然而,这样的金属加热器具有以下缺点。首先,因为它含有金属材料,所以加热器板必须厚达大约15毫米。这是因为薄...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。