技术编号:7142323
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种纳米量级图形制备方法。更确切的说,先制备出“印”,印上刻有所需的突起图形。接着利用得到的“印”压在较为柔软的材料上,印上突起或凹进的部分就在该材料上印刻出了所需的图形。该发明属于微电子领域。背景技术 纳米技术正如火如荼的展开,在微电子工艺中,最小线宽已经到了0.09um,即90nm。目前工业界普遍采用的制备纳米图形的方法是Spacer技术,而在科学研究中电子束曝光也有较大的应用。Spacer技术中,先后采用PECVD(离子增强化学气相沉积)和...
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