技术编号：7142907
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及集成电路和对它们的用于半导体器件制造的处理。更具体地，本发明提供一种在集成电路的制造过程中用于监测低能量剂量注入工艺的方法。但是应理解本发明具有更宽的应用范围。举例来说，本发明可以应用于不同的器件如动态随机存取存储器、静态随机存取存储器(SRAM)、特定用途集成电路器件(ASIC)、微处理器和微控制器、快闪存储器等等。背景技术 集成电路或“IC”，已由原来的制作在单个硅片上的几个相互连接的器件，发展到数百万个器件。现在的集成电路提供的优越性...
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