技术编号：7144232
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新型六芳基二咪唑化合物，其在光聚合反应体系中用作光引发剂；本发明同时涉及含有该光引发剂及聚酰亚胺光敏组合物。本发明同时提供了利用上述光敏组合物获得生成图象及相应电子元件的方法。背景技术光敏树脂组合物已经广泛产业中得到应用，包括UV油墨、屏幕打印、近期发展起来的激光全息照相以及其它特定领域。光敏耐热性聚合物可作为正性光刻胶用以实现半导体日趋微型化，也可以用作保护涂层，负缓冲涂层及钝化涂膜。JP5-67026及JP63-3139报道了利用芳香二胺化合...
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