技术编号:7146333
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体制造装置用保持体。其中特别涉及用于光刻法用涂布-显影器(coater-developers)中的树脂膜的加热固化、以及如Low-k膜等低介电常数绝缘膜的加热烧成的加热装置。背景技术 在半导体制造中,硅片上的Al电路及Cu电路是通过Al喷镀及镀Cu等形成的,随着近年来的半导体元件的高集成化及小型化,布线宽度以及布线间宽度也逐渐趋于变窄。Al电路及Cu电路的布线图案可以通过光刻法技术形成。例如,在Al膜上均匀地涂布树脂后,用被称作步进曝光装...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。