技术编号:7147607
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种单质靶制备SmCo5薄膜的方法,属于磁性薄膜。背景技术SmCo5是新一代高性能永磁材料。高居里温度以及优良的抗腐蚀性能使得SmCo5在高温和其他特殊环境中有良好的应用前景,当前工艺多采用SmCo5合金靶材通过磁控溅射法制得了高性能的SmCo5薄膜材料。高性能SmCo5薄膜的制备过程中,底层的选择和沉积温度是关键因素。发明内容本发明提供一种单质靶制备SmCo5薄膜的方法,能够通过控制Sm、Co 靶材的沉积时间精确控制制备出SmCo5薄膜。本发明...
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