技术编号:7150363
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。,以及衬底处理装置的制作方法本发明涉及脱水干燥方法、脱水干燥装置和用于脱水和干燥用在半导体制作工艺等等中,在湿处理中处理过的衬底的衬底处理装置。背景技术 迄今为止,在半导体制做中,已经习惯通过旋转-干燥处理或N2气流处理来脱水和干燥在湿处理中处理过的衬底,在该旋转-干燥处理中,由旋转式脱水机以高速旋转衬底以便在离心力的作用下去除附着在衬底表面的水分将N2气体吹到衬底上以便干燥衬底。近年来,当半导体设备的处理速度变得更高时,已经将所谓的低k薄膜用作将形成在衬...
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