技术编号:7152896
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及精密仪器设备领域,更具体地,本实用新型涉及ー种用于提高半导体设备内部的局部区域洁净度的气浴装置及真空抽排装置。背景技术随着半导体技术的迅速发展,半导体制程的关键尺寸(Critical Dimension)也越来越小。关键尺寸的减小要求半导体设备内部的腔室具备较高的洁净度,以避免灰尘或其他杂质颗粒污染半导体晶圆,从而影响产品良率与可靠性。为了提高半导体设备内部腔室的洁净度,半导体设备中通常采用了风机滤器机组 (Fan Filter Units)...
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