技术编号:7154652
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,尤其是,涉及通过使用槽孔天线向处理容器中提供电磁场来产生等离子体的。背景技术 在半导体设备或平板显示器的制过程中,等离子体处理设备经常用来进行如氧化膜的形成、半导体层的晶体生长、蚀刻和灰化等处理。在等离子体处理设备中,高频等离子体处理设备是很有效的,该设备向处理容器中提供高频电磁场,并通过电磁场的效应在处理容器中电离和分离气体,由此产生等离子体。由于高频等离子体处理设备能够产生低压、高密度的等离子体,因此它能够有效地进行等离子体处理。图8是...
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