技术编号：7156300
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到一种新型的大面积放电的常压等离子体自由基清洗喷枪，喷枪金属壳体作为接地电极保持接地，两个射频电极被介质阻挡层石英包覆，工作气体从两个射频电极之间的缝隙喷出，射频电极与射频电源接通时在射频电极的下面产生大面积的辉光等离子体，等离子体中的自由基与硅片表面光刻胶或其他衬底表面有机物发生反应，达到清洗目的。背景技术随着大规模集成电路的发展，集成度的不断提高，线宽的不断减小，对硅片的清洗要求也越来越高，在硅晶体管和集成电路生产中，几乎每道工序都有硅片清洗...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。