技术编号:7161503
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体晶圆制造领域,具体涉及一种用于半导体晶圆制造设备中的超洁净微环境装置。背景技术超洁净微环境装置用于为半导体晶圆制造设备提供垂直层流,现有技术中的超洁净微环境装置全部为上进风方式,其中的风机都是设置在超洁净微环境装置的上表面。这种装置适合于上进风口无障碍物的情况,适合用于半导体晶圆制造设备单层工艺腔室的设备,而对于双层或多层工艺腔室的设备则不适用。基于这种现状,半导体晶圆制造设备的单位面积产量受到了一定的影响。发明内容(一)要解决的技术问题本...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。