技术编号:7162399
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种微影制程,特别涉及一种可以控制微影图案大小的微影制程。背景技术微影制程是集成电路制程中极为重要的步骤,其对成品的良率影响极大。微影制程一般是利用光源发出光线透过具有预先设计图案的光罩,照射到涂覆有光阻层的基板上,使光阻层发生光敏反应,再将基板浸入显影液中,以去除发生光敏反应的光阻层部分,从而暴露出部分基板,形成与光罩上的图案相应的图案。图1是一种现有技术微影制程的示意图。提供一长方体基板100,在该基板100上涂覆一光阻层200,该步骤是采...
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