技术编号：7163644
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在等离子处理装置的真空容器内通过静电吸附来保持基板、并能控制基板温度的基板保持装置。背景技术在溅射装置、蚀刻装置等等离子处理装置的真空容器内设有用于保持基板(晶圆)的基板保持装置(基板支承装置)，通常能够控制基板的温度。例如、提出有这样一种基板支承装置其包括内置有加热器或冷却器的基座构件、 以及静电吸盘，该静电吸盘隔着传热用薄片将晶圆吸附保持在其上部(参照专利文献1)。 在基座构件上设有用于导入传热用气体的气体导入通路，在基座构件的上表面部形...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。