技术编号：7163799
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本说明书涉及到用于晶片和其他基板的托盘。所述托盘可适应在处理期间出现的热梯度。背景技术可处理晶片和其他基板以制造各种不同器件，包括太阳能电池和微电子器件。用于制造器件的处理有时需要移动基板至保持在相对较高温度下的处理装置中。例如，可能必须将基板引入到保持在100°c或更高温度下的溅射或者蒸镀装置。发明内容本公开描述了用于晶片和其他基板的托盘。所述托盘可适应在包括溅射和蒸镀的处理期间出现的热梯度。在第一方面，一种装置包括大体平坦的基板托盘。所述托盘包括一对细...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。