技术编号:7164242
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及进行基板处理的。背景技术例如在半导体装置的制造工序的光刻工序中,在晶片上依次进行涂敷抗蚀剂液形、成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂敷处理、将抗蚀剂膜曝光为规定的图案的曝光处理、对被曝光的抗蚀剂膜进行显影的显影处理等的一系列的处理,在晶片上形成规定的抗蚀剂图案。这些一系列的处理在搭载有处理晶片的各种处理部和输送晶片的输送机构等的基板处理装置即涂敷显影处理装置中进行。但是,在上述的涂敷显影处理装置中,为了连续地输送多个晶片并对其进行处理,例如当在该涂敷显影处理装置...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。