技术编号:7164480
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种外延生长的图形生长衬底。背景技术LED行业面临的主要挑战之一是外延生长的均匀性。业界长时间以来把注意力主要集中在提高MOCVD设备的气流均匀性、石墨盘的温度场的均匀性和实时监控生长衬底的翘曲程度。但是,即使能够把石墨盘的温度场的均匀性做到完美,由于每个生长衬底的内部应力、厚度及厚度均匀性等各不相同,每片生长衬底在外延生长过程中由于外延层和生长衬底的热涨系数不同所带来的翘曲的形状和程度各不相同,使得每片生长衬底的温度场的分布不同,导致外延片上的...
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