技术编号:7165365
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于设计一光罩与应用该光罩的制程方法,特别是有关于一种减少透镜像差(lens aberration)以提高数组图案(array patterns)间关键尺寸(critical dimension,CD)一致性与消除因偏轴发光(off-axis illumination,OAI)造成的图案移位(pattern displacement)现象的光罩与方法。背景技术 半导体制程中,微影(lithography)是以步进(step-by-step)或是扫...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。