技术编号：7165470
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及通过用调制光束辐射衬底进行写图形的技术。在用光进行图形写操作的图形写装置对半导体衬底进行写操作时，为图形写操作产生的数据的量非常大，因此产生该数据需要太多的时间。此外，在只在整个衬底上写相对粗糙的一块图形(下面称为“图形块”)时，与印刷电路板的情况一样，可通过根据衬底膨胀或收缩而均匀膨胀或收缩图形块来写合适的图形，但是在写大量非常精细的图形块时，与半导体衬底情况一样，如果所有的图形块都均匀膨胀或收缩，则存在由于光栅中的离散化效应可能在某些超细图形...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。