技术编号:7170494
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及太阳能电池制造,尤其涉及。背景技术常规太阳能电池的制备过程主要包括制绒、扩散、湿法刻蚀、PECVD、印刷、烧结和测试。其中,制绒主要是利用化学药品将P型硅片的表面腐蚀成凹凸不平的表面结构,增加光在硅片表面的反射次数,从而达到增加光吸收的目的;扩散是在P型硅片的表面扩散一薄层的N型硅,从而形成PN结;湿法刻蚀是利用一定比例的化学药品对硅片的腐蚀特性,除去硅片背面及周边的扩散层,达到使硅片正面和背面绝缘的目的;PECVD是在硅片表面沉积一层折射率低于...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。