技术编号：71724
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及等离子体处理装置，特别是涉及检测出装置固有的高频特性，能评价工艺性能的等离子体处理装置。 背景技术在半导体元件及液晶显示器(LCDLiquid Crystal Display)等的制造工序中，有刻蚀、薄膜形成、以及溅射等利用等离子体的许多工序。 在这些工艺中，从外部把高频功率施加到执行工序的处理室内，在处理室内发生等离子体。而且，为了在发生等离子体时，将来自高频电源的高频功率高效率地供给到处理室内，在高频电源和处理室之间设有由可变电感元件及可变电容元件等构成的阻抗匹配电路。 在利用这样的等离...
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