技术编号:7174426
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种湿蚀刻装置,特别是涉及一种具有自动清洗滤芯功能的湿蚀刻装置。背景技术 请参考图1,其显示一现行半导体制作工艺中,特别是TFT-LCD的薄膜晶体管制作工艺中,用于对一玻璃基板进行蚀刻制作工艺的湿蚀刻装置100的蚀刻模块。其中容量为约150L的储存槽102、104内储存有蚀刻液10,并通过一蚀刻液管路系统,供应反应室122所需要的蚀刻液10,再经由一回收系统(未绘示于图面)将蚀刻液10回收至储存槽102、104循环使用,而上述供应反应室122所需...
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