技术编号:7181693
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及利用高频电力将处理气体等离子体化,由该等离子体对被处理体实施蚀刻等处理的等离子体处理装置,尤其涉及变更该等离子体处理装置的装置状态的技术。 背景技术在半导体设备、液晶显示装置等的平板面板显示器(FPD Flat PanelDisplay)的制造工序中,人们利用对半导体晶片、玻璃基板这样的被处理体实施蚀刻处理的等离子体蚀刻装置、实施成膜处理的等离子体CVD装置等的等离子体处理装置等。 例如,已知在向平行平板型电极施加高频电力,利用形成于该电极间的电...
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