技术编号:7188687
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术,特别是一种高稳定高精度高阻值金属膜电阻器及其溅射镀 膜工艺方法,具体说为采用磁控溅射法生产高稳定高精度高阻值金属膜电阻器的制造方 法。背景技术金属膜电阻器具有高稳定性、低噪音、频率特性好等优点,同时工作环境温度范围宽, 单位面积承受的功耗较高,有利于电子设备的小型化,另外,其温度系数、电压系数都比 较小,适合在精密的电子仪器中应用。因此,金属膜电阻器的应用范围极为广泛,如需要 高稳定性、高可靠性的太空、航空用、国防用以及在电子计算机...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。