技术编号:7195316
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种曝光方法和装置。更具体地说,本发明涉及一种用于在印刷接线板、组件或半导体基片(半导体晶片)上利用多个光源形成曝光图案的曝光方法和装置,该多个光源能在不同辐射区上并以扫描间距辐射光线。再有,本发明涉及一种介质,在其中容纳执行上述曝光方法的程序。当以传统的制造方法制造印刷电路板或组件时,通过称作光刻法(photolithography)的技术,使用光掩膜形成图案,如布线图案。也知道无掩膜曝光方法。在这种方法中,利用激光束光源,激光束直接照射在表面...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。