技术编号:7205871
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于在诸如磁存储介质、半导体装置或者显示装置之类的电子装 置的制造处理中沉积材料的沉积设备以及使用该沉积设备的电子装置制造方法。背景技术半导体元件的先进的小型化要求越来越高的沉积特性标准。例如,栅极绝缘膜需 要是非常薄的。薄的电极膜或者类似物需要稳定地形成在非常薄的绝缘膜上。而且,因为 在膜中或者在薄膜之间的界面处的诸如碳的杂质影响元件性能,所以需要减小杂质水平。用作沉积方法之一的溅射方法可以实现高质量的沉积,这是因为原料不像CVD方 法那样...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。