技术编号:7206106
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术等离子体处理装置被用于使用包括蚀刻、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积 (CVD)、离子注入和光阻(resist)去除等技术处理衬底。等离子体处理中使用的一种类型 的等离子体处理装置包括包含上下电极的反应室。在电极之间建立电场以将工艺气体激 励到等离子态以在反应室中处理衬底。发明内容在一个实施方式中,一种涂覆射频返回带包括具有表面的弯曲金属条和粘着于 该表面的柔性涂层,该涂层包含聚合物或弹性体,其中该涂层在由等离子体产生的自由 基的环境中提供耐侵...
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