技术编号:7207061
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及通过多种处理液依次处理被旋转驱动的基板的自旋处理装置及自旋 处理方法。背景技术例如,在液晶显示装置或半导体装置的制造过程中,进行在矩形状的玻璃基板或 半导体晶片等的基板上形成电路图案的处理。在形成电路图案的情况下,对上述基板进行 显影处理、蚀刻处理或者保护膜的剥离处理等。在进行这些处理的情况下,首先,对基板供 给显影液、蚀刻液或者剥离液等作为第1处理液而进行规定的处理,接着将纯水等的清洗 液作为第2处理液供给而进行清洗处理。由于显影液、蚀刻液或者...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。