技术编号：7207189
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及通过对被处理体照射激光从而对被处理体进行退火处理的激光退火 方法及装置。背景技术历来，为了实现高性能的液晶显示装置等的设备，开发了在玻璃基板等的绝缘性 基板上形成高性能的薄膜晶体管等的半导体元件的方法。在该半导体元件中通常使用通过 热处理使非晶硅结晶化的薄膜状的多晶硅。作为制造多晶硅膜的方法，通常是预先在基板上成膜非晶硅膜，照射激光使其结 晶化的方法。根据该方法，由于利用半导体薄膜的熔融固化过程中的结晶化现象，所以能够 获得晶粒比较大、高品质的多...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。