技术编号:7207700
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于在基板上形成强电介质薄膜的技术。更详细地说,本发明是涉及用于在基板上形成无涂布不匀(条痕)的均匀强电介质薄膜的强电介质薄膜形成用溶液及该强电介质薄膜的形成方法。由于钛酸锆酸铅(PZT)、钛酸锆酸镧铅(PLZT)、钽酸铋锶(SBT)等复合氧化物具有高电介性、强电介性、电压性、热电性,其薄膜被用于DRAM或FRAM等半导体存储器、电容器、传感器、执行器等中。在强电介质薄膜的形成中,使用由构成强电介质薄膜的元素的金属醇盐等有机金属化合物和有机溶剂调...
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