技术编号:7207783
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一般而言,本揭示发明关于集成电路,而尤关于通过使用嵌入的应变诱发材料形 成具有应变的沟道区的不同的晶体管类型,以提升于该沟道区中电荷载体迁移率。背景技术由于在给定的晶片面积上能够提供越来越多之功能,因此集成电路已发现可以广 泛地应用于许多的领域。集成电路由例如晶体管之极多的个别电路组件所组成,其中数 百万个或者甚至数亿个个别的晶体管可以设置于复杂的装置上。一般而言,目前正在实行 复数种之工艺技术,其中对于例如微处理器、储存器晶片等复杂的电路,CMOS技术由...
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