技术编号：7208178
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。这里公开的本发明涉及制造半导体基板的设备，并且更特别地，涉及调节处理半 导体基板的传送构件的速度的方法、使用所述调节方法的基板传送方法以及基板处理设备。背景技术在基板制造过程中，多次重复对介电材料和金属材料的沉积与蚀刻、光致抗蚀剂 的涂覆与显影、灰化处理(asher process)等，以实现构图的精致布局。但是，尽管进行了 包括蚀刻或者灰化处理的处理，仍会在基板中残留异物。移除这些异物的处理包括使用去 离子水或者化学制剂的清洁处理。进行清洁处理的基板清洁...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。