技术编号:7208370
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。政府利益本发明至少一部分是在美国政府能源部编号为DE-FC36-07G017053的合同下进行的。 所以美国政府在这个发明中可以有一定的权益。本发明整体涉及在基底上加工材料。特别是,本发明涉及在基底上生成材料的装 置,该装置被配置成用于在基底上形成基本均勻的电场,其中均勻电场内被激活的材料用 基本均勻的方式在基底上被加工处理。背景技术沉积装置已经广泛地应用于制造半导体装置,如光响应装置、薄膜晶体管、集成电 路、装置阵列、显示器、和类似装置。在许多应用中,沉...
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