技术编号:7208458
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在此公开的本发明涉及一种制造半导体衬底的设备,以及更具体地涉及衬底传输装置、具有该衬底传输装置的衬底处理设备以及使用该衬底传输装置的传输衬底的方法。背景技术在衬底制造过程中,沉积和蚀刻电介质和金属材料、涂覆和显影光刻胶、去胶处理 (asher process)等被重复多次以实现精密布置的图样。然而,尽管执行了包括蚀刻或去胶处理的这些处理,但是外来物质仍保留在衬底中。用于去除这些外来物质的过程包括使用去离子水或化学药品的清洁处理。执行清洁处理的衬底清洁装置被...
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