技术编号:7208814
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空处理装置,该真空处理装置利用真空条件对例如使用在显示器中的玻璃基板等进行处理。背景技术显示器的显示画面越来越大,因而其使用的基板也越来越大,作为对基板进行处理的装置而言,在现有技术中,有一种已经生产化了的纵式(立式)的真空处理装置。纵式真空处理装置是在基板大致竖直地被支承的状态下对基板进行处理的真空处理装置。采用纵式真空处理装置,即使基板较大也能够抑制装置设置面积的增加,并且能够抑制基板的挠曲变形(例如,参照专利文献1)。现有技术文献专利...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。