技术编号:7209406
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例涉及一种。 背景技术使用磁体时,在自由空间上便于阻抗匹配使电容率和磁导率的比率接近于1。通过高温热处理的方法上升电容率和磁导率的值,以便使电容率和磁导率的比率接近1。即,通过热处理温度的上升使晶界成长并使磁导率上升,由此可以调节电容率和磁导率的比例。 但是,热处理温度的上升不仅影响磁导率的上升,又影响电容率的上升,由此两个值都会增加。并且,这种热处理温度的上升导致共振频率的下降和生产工序的高价化。因此,需要通过低温热处理也能使电容率和磁导率的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。