技术编号：7209636
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开大致涉及射频(RF)溅射物理蒸汽沉积(PVD)，且更特别地涉及用于RF溅射 PVD设备的成形护罩和室护罩。背景技术射频溅射PVD是用于在基底上沉积薄膜的方法。基底放置在真空室中，面向连接至RF电源的靶体。当施加RF功率时，形成等离子体。正气体离子被拉向靶面，撞击靶体， 并通过动量传递移除靶原子。被移除的靶原子随后沉积在基底上以形成薄膜层。在物理蒸汽沉积期间，重要的是控制沉积的薄膜的特性。由于等离子体朝向真空室壁展开或反向沉积，在过程或薄膜的稳定性方面...
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