深沟槽变容器的制作方法技术资料下载

技术编号:7209961

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本发明涉及半导体结构,尤其涉及与深沟槽线性电容器兼容的深沟槽变容器及其制造方法。背景技术变容器为具有压敏电容的半导体器件。通常与绝缘体接触的半导体表面处的空间电荷区以及累积随着所施加的电压而变,以产生依赖于偏压的电容。许多电子电路内都可有利地采用变容器内电容的变化性,而在放大器、振荡器以及频率合成器内提供有用的功能。例如变容器可用来构造电压控制振荡器(VCO),其产生可调整的稳定频率,而不必采用具有多个振荡器的电路。mi提出的美国专利第7,129,801 ...
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