技术编号:7211119
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于半导体工艺件处理反应器的气体分布装置,尤其涉及一种安装在半导体工艺件处理反应器中的气体分布装置,该气体分布装置可用于向半导体工艺件传送气相化学物质,以便通过化学气相沉积、原子层沉积或类似方法,在半导体工艺件的表面上沉积均匀的薄膜或薄层。与此相关,本发明还涉及一种使用该气体分布装置的半导体工艺件处理反应器。背景技术化学气相沉积和原子层沉积是半导体制造中关键的工艺步骤。尤其氧化物层的沉积是集成电路制造中的重要环节。更具体地讲,若需要填充集成电...
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