技术编号：7211154
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种防护装置，尤其涉及一种用于封闭腔体的防护装置。背景技术在半导体的一些制程中，由于压力变化的存在， 一些封闭腔体的内壁在使 用一段时间后，经常会附着污染物，影响制程的精密性。例如，在晶圆的制造工艺中，晶舟真空准备腔(Loadlock)的内表面很容易附着一层固体的微尘，如 果清洗不及时，当其他晶圆被送入晶舟真空准备腔时，这些微尘很容易污染晶 圆。目前常见的做法是操作人员每天监控晶舟真空准备腔内壁的微尘状态，如 果这些微尘超过了标准，必须停止机器的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。