技术编号:7211619
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种激光照射法和一种用于使用该方法的激光照射装置(该装置包含激光器和用于将激光器发射的激光束引导到被照射物体的光系统)。此外,本发明涉及一种包含激光束照射步骤的半导体器件的制造方法。注意,此处描述的半导体器件包含一个光电器件如液晶显示器件或发光器件以及一个包含光电器件作为部件的电子器件。背景技术 最近几年,一种技术被广泛研究,其中对形成于玻璃等绝缘基片上的半导体薄膜进行激光退火处理,以使薄膜晶化,从而改善其结晶性,以获得结晶半导体薄膜或激活杂质元...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。