技术编号:7212353
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于 一 种排气系统以及使用此系统制造薄膜的半导体 制造装置与方法,且特别是有关于 一种具有增大尺寸的化学气相沉积(chemical vapor deposition, CVD ) i殳备,其可稳、定地执4亍高温4空制 并且可稳定地传入与排出处理气体。背景技术一般来说,当半导体元件图案变得更精细以最大化每单位晶圓的 输出时,会利用对于能量敏感的感光膜。然而,因为由于在感光膜下 的材料层会产生扩散的反射光,所以会执行使用氮化物膜的抗反射涂 布(an...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。