技术编号:7212906
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在用半导体制造工艺把所希望的形状的图形形成在晶片上的方法和装置中,适用于该方法和装置所使用的多种信息的管理方法的有效技术。特别是在作为半导体制造工艺的重要工序的形成图形的形状评价中,必须使用测长扫描型电子显微镜(Critical-Dimension Scanning ElectronMicroscopeCD-SEM)来生成拍摄试样上的任意位置所必需的拍摄方案,此时也使用多种信息(图形配置的设计数据、计测点的信息、计测条件信息等)。本发明包含有关这...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。