技术编号:7212922
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于处理基片例如半导体晶片的静电夹盘(ESC)。该静电夹盘用于在进行腐蚀或者沉积工艺的等离子体反应室中支承半导体基片。该ESC特别适用于用高温等离子体腐蚀低温下难挥发的材料例如铂。背景技术 一般采用真空处理室来腐蚀基片上的材料和在基片上进行材料的化学蒸气沉积(CVD),方法是向该真空室中输送腐蚀性气体或者沉积气体,并将高频(RF)场加到该气体上,将气体激发,形成等离子状态。在共有的美国专利No.4340462、4948458和5200232中公开...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。