技术编号:7213146
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及监测半导体制造装置性能的方法,具体地说,涉及监测晶圆托 盘平整性的方法。背景技术晶圓托盘(E-table)是扫描机台(scanner)对晶圆进行曝光加工时用来 放置晶圓的平台,这个晶圓托盘表面有无数个柱状凸起,晶圓放置在这些柱状 凸起上面,并对柱状凸起之间抽真空,使晶圓被牢固地吸附在晶圆托盘上后进 入曝光制程。如果晶圓托盘表面无数个柱状凸起不处于同一平面,会在曝光制 程中影响晶圓上图形成形的质量。目前还没有晶圓托盘平整性监测的方法。ASML现有的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。