技术编号：7214613
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空处理技术，特别是涉及适合下述的真空处理装置等的有效的技术，利用该真空处理装置进行液晶显示装置(LCD)或等离子显示器等的平面显示器用的玻璃基板等的基板运送工序，或对上述玻璃基板进行干蚀刻等的真空处理。背景技术 在比如LCD的制造工艺中，相对作为被处理基板的LCD玻璃基板，多采用干蚀刻、溅射、CVD(化学气相生长)等的真空处理。在进行这样的真空处理的真空处理装置中，采用下述的结构，其中，按照与保持真空而进行上述处理的真空处理室邻接的方式，设置真...
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