技术编号：7215193
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路制造，特别涉及恢复通过光刻工艺形成的部件中横磁波对比度的方法和系统。背景技术 微电子电路的制造商们一直在寻求制造具有更小尺寸的部件。如图1所示，这些部件的光刻制造典型地使用步进-扫描成像工具20，用以将图案投射在基板或晶片的感光抗蚀剂层上。该成像工具的投射光学系统包括灯、激光、或者其它光源22，其投射出射线24，用于通过聚光棱镜系统26照亮光掩模或标板28。该光掩模或标板28包括将要被投射并在晶片基板上复制的图案，并且该光掩模或标板通常基...
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