技术编号:7220576
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种从微波产生装置导入微波而产生表面波激发等离子体的表面波激发等离子体产生装置,以及一种利用表面波激发等离子体来进行CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)或蚀刻等的表面波激发等离子体处理装置。背景技术 表面波激发等离子体(SWPSurface Wave Plasma)通过如下方式而生成,即,将在微波导波管内传播的微波从槽孔天线导入到电介质部件内,再利用因微波电力而在电介质部件表面上产生的表面波来激发等离子体,从而...
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